光电轮廓仪WGL它究竟在仪器检定和校准中扮演着什么角色

一、产品特性概述

本款光电轮廓仪WGL采用先进的非接触式光学相移干涉技术,实现对各种工件表面的微观形貌进行三维立体图像捕捉与分析,无需物理接触,从而保护原有工件表面完整性。其测量速度快,能够快速获取精确数据,并提供详细的形貌信息。适用于多种场景,如测量量块、光学零件的粗糙度;标尺和度盘刻线深度;光栅槽结构镀层厚度及边界细节;磁(光)盘和磁头表面结构;硅片表面粗糙度及其上覆盖图形结构等。此外,由于其高精度、高效率和三维测量能力,本仪器广泛应用于各级测试计量研究单位、工矿企业计量室、精密加工车间,以及高等院校和科研机构。

二、主要技术规格

表面微观不平深度测量范围:1000nm至1nm(连续表面无突变),130nm至1nm(存在突变)

测量重复性:δRa ≤0.5nm

物镜倍率:40X

数值孔径:Φ 65mm

工作距离:0.5mm

仪器视场:

目视: Φ0.25mm,放大倍数500×

摄象: 0.13×0.13mm,放大倍数2500×显示在计算机屏幕上

接收器列阵尺寸:1000X1000象素,每象素5.2×5.2µm大小

测量时间采样时间:1秒钟一次扫描

标准镜反射率:

高反射率约50%

低反射率约4%

照明灯源为6V白炽灯,绿色干涉滤波片波长λ≒530nm,半宽λ≒10nm

主显微镜升程110毫米,工作台升程5毫米

X轴及Y轴方向移动范围±10毫米

工作台旋转运动360°角

顷斜角±6°

计算机系统要求P4处理器以上性能,内存至少1GGB RAM以及17英寸纯平显示器