高纯水设备犹如大型纯净水生产线的翅膀EDI则是它们精准跳跃的脚步

高纯水设备——EDI系统:在科技的翅膀下,精益求精的工业需求被满足。半导体制造和制药行业对高纯度水的依赖日益增长,而传统离子交换技术已不再满足这些严苛要求。膜处理技术,如电除盐(EDI)过程,以其卓越的净化能力和连续工作特性,成为了替代方案。而且,它们相比于离子交换系统,更具备机械上的优势,不需要复杂的酸碱再生过程及废水处理。

EDI装置通过将特殊设计的离子交换树脂夹层在阴阳离子交换膜之间,形成一系列单元。在直流电驱动下,这些单元能够有效去除淡水室中的阴阳离子,使得浓水室中的污染物得到清洁。这种独特的手段使得EDId设备能够生产出8-17兆欧级纯净水,从而满足不同行业对高纯度水需求。

EDI设备通常与反渗透(RO)系统相结合,以确保进口水质达到极致。RO所生成的40-2μS/cm电阻率之下的淡水,是EDId设备理想之选。而经过EDId处理后的最终产品,其电阻率可达18 MΩ.cm,即便是对于那些对抗静电、超声波清洗等先进工艺都能保持耐心的人来说,这样的结果也是令人瞩目的。

除了上述优点外,EDId设备还有以下特点:

淡水隔板采用卫生级PE材料。

EDI膜片采用进口均相膜和国产异相离子交换膜。

采用进口EDI专用均粒树脂和国产EDI专用均粒树脂。

EDI电极板采用钛镀钌技术。

压紧板采用具有硬性的合金铝轧铸而成。

固定螺丝采用国标标准件。

膜堆出厂试压7bar不漏水。

膜堆电阻低、功耗小。

外观装饰板造型美观结实。

10.***大膜堆处理水量3T/H,***小模堆处理75L/H

纯、浓、极三个通道设计合理,不易堵塞,流程分布均匀,无死角。

至于进入EDId设备前的一系列条件,我们必须谨慎考虑,因为这直接影响到整个净化过程:

1.* 通常为单级或二级反渗透产出的渗透液

2.* TEA(总可交换阴离子的CaCO3计):<25ppm

3.* 电导率:<40μS/cm

4.* pH值:6~9 (当总硬度低于0.1ppm时)

5.* 温度:5~35℃

6.* 进入压力:<4bar(60psi)

7,* 硬度: <1 ppm(CaCO3计)

8* TOC: <0,5 ppm

9* 氧化剂: Cl2 < 0,05 ppm, O3 < 0,02 ppm

10* 变价金属: Fe < 0,01 ppm, Mn < 0,02 ppm

11* H2S : < 0 ,01 ppm

12,* 二氧化硅: < 0 ,5 ppb

13,* 色度 : <= APHA

最后,由于所有这些细节都直接关系到最终产品质量,所以我们不能忽视任何一个环节。此外,对H2S、二氧化碳、二氧化硅等有机物含量进行严格控制,也是实现高纯度目标不可或缺的一部分。如果每一步都按照以上要求来操作,那么即使是在最为挑剔的地球化学实验室中,我们也可以自信地提供无懈可击、高效运行的大型纯净生产线设备。

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