什么是测量光电轮廓仪WGL
一、产品特性概述
本款光电轮廓仪采用先进的非接触式光学相移干涉测量技术，能够无损地捕捉并分析各种工件表面的微观形貌。它能够快速生成三维立体图形，并提供精确的测量结果。适用于对各类物品进行表面粗糙度评估，如金属和塑料等材料的量块；以及精密度盘、光学零件刻线深度测试；镀层厚度和边界结构分析等多种应用场景。此外，它还能用于磁盘及磁头表面的结构检查，以及硅片上图形结构的高精度测量。
其独特之处在于高测量精度、高效率和非接触性质，使得它成为各级测试机构、计量研究单位、工矿企业计量室以及精密加工车间不可或缺的工具。而对于高等院校和科研机构来说，更是极具价值的一个检测手段。
二、技术规格详细说明
表面微观不平深度测量范围：针对连续表面且高度突变不超过波长四分之一时，达到了1000nm以内，而对于突变超过此值的情况，可扩展至130nm以内。
测量重复性：保证了δRa ≤0.5nm，即最高可达0.5纳米。
物镜倍率与数值孔径：40X倍率，数值孔径达到Φ65mm，为确保清晰视觉效果。
工作距离与视场：具有工作距离为0.5毫米，同时提供目视Φ0.25mm及摄象显示为13×13毫米的小型化设计，以适应不同样品大小需求。
放大倍数与接收器阵列：
目视放大到500X，
摄象屏幕展示2500X放大，
接收器阵列设置为1000行×1000列,
象素尺寸控制在每个象素为5.2×5.2微米小巧紧凑。
6.. 测量时间采样速度快，仅需1秒完成扫描任务。
7.. 仪器配备标准镜板，对反射率有较好的响应能力（高约50%，低约4%）。
8.. 照明源采用白炽灯6V 5W，有利于稳定照明环境；
9.. 绿色干涉滤光片波长设定在λ≒530nm，与半宽带通 λ≒10nm 配合使用，以优化干涉模式；
10.. 主显微镜升程110毫米，小巧便携；工作台升程能力达到5毫米，为操作人员提供灵活空间；
11.. X轴及丫方向移动范围广泛可达±10毫米，大幅提升操作便利性；
12.."工作台旋转运动范围360°, 顷斜角±6°", 提供全方位样品处理能力.
计算机系统要求P4处理器至少2G内存以上，并搭配17英寸纯平显示器，以支持用户友好的操作界面。
