高纯水设备犹如半导体之心通过EDI的精准调校打造出超纯水的奇迹
高纯水设备的EDI技术：在工业领域，特别是半导体制造和制药行业，高纯度水的需求日益增长。传统上，这些行业依赖离子交换来获得高纯水，但随着膜技术的进步，如电除盐（EDI）过程越来越受到欢迎。EDI能够有效去除矿物质，并且可以连续运行，它们比离子交换系统更为简单，无需酸碱再生或废水处理。
EDIs工作原理通过将特殊设计的阴阳离子交换树脂与膜相结合，形成一个单元。在这个单元中，一定数量的浓水室被网状物隔开，而两端分别设有阴阳电极。当直流电激活时，淡水室中的阴阳离子穿过对应的膜进入浓水室，同时从淡水室中排出，从而实现去离子的目的。浓缩后的液体作为浓流输出。
EDIs通常使用反渗透（RO）产生的超净水作为输入源，其电阻率通常在40-2μS/cm之间，而经过EDIs处理后的产品可达18 MΩ.cm以上，对于需要1-18.2MΩ.cm级别纯净水的大型项目来说，这是非常合适。
EDI装置的一个优势在于不需要化学再生，只需经常清洁就能保持效率，而且它能够持续运行，不像传统系统那样需要频繁地进行混合再生过程。此外，由于其模块化结构，便于维护和升级。
对于进口用作EDIs的一般指标包括：
TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：<25ppm。
电导率：<40μS/cm
pH：6.0～9.0，当总硬度低于0.1ppm时，最佳pH范围为8.0～9.0。
温度：5～35℃。
进入压力：<4bar (60psi)。
硬度（以CaCO3计）：<1.0ppm。
有机物（TOC）：<0.5ppm。
氧化剂：Cl2 < 0.05 ppm, O3 < 0.02 ppm。
变价金属：Fe < 0.01 ppm, Mn < 0.02 ppm。
H2S：< 10 ppb）。
以此标准，可以确保输入流量达到所需水平，为后续生产提供稳定的、高质量资源。
