高纯水设备犹如天籁之音引领着EDIs的和谐共舞
高纯水设备EDIs：精益求精的工商业伙伴
在许多工商业领域，高纯度水成为了不可或缺的伙伴，如半导体制造和制药行业。过去，这些行业使用离子交换技术获得纯净水，但随着膜处理技术的兴起，特别是电除盐（EDI）等膜系统日益受欢迎。这些膜系统能够有效去除矿物质，并且可以连续运行，而非离子交换系统需要酸、碱再生及废水中和。此外，膜处理过程在机械上更为简单，不需如离子交换那样耗费大量资源。
EDI处理过程正成为一种增长迅速的业务之一，它通过特殊设计的水槽与混床离子交换树脂相结合，以实现从1-20mg/L总固体溶解量（TDS）的水源生产出8-17兆欧级纯净水。
EDI装置将多个单元组合起来，其中每个单元包含阴/阳离子交换树脂夹套于阴/阳离子交换膜之间，形成一个完整的EDIS单元。工作原理如图所示，在直流电力的驱动下，阴阳离子的移动导致浓淡两种状态间进行不断循环，同时确保了浓淡室中的污染物被有效去除。
通常情况下，EDI设备会采用反渗透（RO）作为其给排口。但是不同于RO，其最终产品可达18 MΩ.cm（25℃），适用于各种要求较高电阻率的情况，从而使得它成为了一种极为灵活和多功能的工具。
关于EDIs装置的一些特点包括：
淡水隔板采用卫生级PE材料。
EDI膜片采用进口均相膜和国产异相离子交换膜。
使用进口专用均粒树脂与国产专用均粒树脂。
采用钛镀钌技术制造电极板。
压紧板由硬性合金铝轧铸而成。
固定螺丝采用国标标准件。
膜堆出厂试验压力达到7bar不漏水。
电阻低、功耗小，使其更加节能环保。
外观装饰板造型美观结实耐用长期使用不会出现问题10.
10.大型模块处理能力强达3T/H，小型模块则适用于75L/H的小规模需求11.
11.设计合理无死角通道分布平衡避免堵塞
最后，对于进water指标要求如下：
12.TEA（总可交换阴離子的CaCO3计）：<25ppm
13.TEA（总可 交換陰離子的CaCO3計）：<25ppm
14.電導率：<40μS/cm
15.pH：6.0~9.
16,溫度：5~35℃.
17,進入壓力：<4bar (60psi).
18,硬度：(以CaCO3計)：<1.
19,有機物 (TOC)：<0,5ppm.
20,氧化劑:Cl2:<0,05 ppm; O3:<0,02 ppm.
21,變質金屬:Fe:<0,01 ppm; Mn:<0,02 ppm.
22,二氧化硫: H2S:<0,01 ppm.
23=二氧化碳總含量: <10ppm*
24,色度: <5APHA
因此，无论是在半导体制造还是制药行业中，都可以依赖这些先进、高效、经济性的高纯度水设备来满足各种需求，为工业发展提供坚实支持。
