WGL光电轮廓仪仪器型号是什么
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一、产品特性概述
本款仪器采用先进的非接触光学相移干涉测量技术，能够无损地捕捉微观表面的立体图像，并提供精确计算分析。其应用广泛，涵盖了各种量块、光学零件表面粗糙度的测量，以及标尺、度盘刻线深度；光栅槽形结构镀层厚度和边界细节；磁（光）盘与磁头表面结构；硅片表面粗糙度及上方复杂图形等多种场景。由于其高精度、高效率和非接触三维测量能力，本款仪器是各级测试机构、企业计量室以及精密加工车间不可或缺的工具，同时也适用于高等院校和科研单位进行研究工作。
二、主要技术规格
表面微观不平深度测量范围：在连续表面上，不超过波长四分之一高度突变时为1000nm/1nm，在有大于波长四分之一高度突变时为130nm/1nm.
测量重复性：δRa ≤ 0.5 nm.
物镜倍率：40X.
数值孔径：Φ 65.
工作距离：0.5 mm.
仪器视场：目视 Φ 0.25mm, 摄象 0.13×0.13mm.
放大倍数：目视500×, 摄象2500×.
8 接收器测量列阵:1000X1000
9 象素尺寸:5.2×5.2µm
10 测量时间采样（扫描）时间:1S
11 主显微镜升程:110 mm
12 工作台升程:5 mm
13 X方向移动范围及Y方向移动范围均可达～10 mm
14 工作台旋转运动范围360°，顷斜范围±6°
15 计算机系统要求P4 ,内存需至少2 .8G以上，显示屏推荐使用17寸纯平显示器并配备至少1G内存
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