光电轮廓仪WGL仪器仪表属于机械类吗
一、产品特性概述
本款光电轮廓仪WGL采用先进的非接触式光学相移干涉技术，实现对各种工件表面的微观形貌进行三维立体图像捕捉与分析，无需物理接触，从而保障测量对象的完整性和准确性。其广泛应用于各类精密度量、复杂表面结构评估，如测量量块、光学零件粗糙度；标尺刻线深度；光栅槽形结构镀层厚度及边界细节；磁盘/光盘与磁头表面结构；硅片上微观形貌等领域。
该设备以其卓越的测量精度、高效的非接触三维扫描能力以及计算机辅助快速分析功能著称，其适用场景涵盖了多个行业领域，包括各级计量研究机构、工矿企业计量室、精密加工车间，以及高等院校和科研单位，为用户提供了一站式解决方案。
二、新型参数配置
表面微观不平深度测量范围：在连续表面无突变或有小于1/4波长高度突变时可达1000nm以上，若存在大于1/4波长突变则可达130nm以上。
测量重复性的稳定性：δRa ≤ 0.5nm
物镜倍率高效：40X倍率增强视觉效果
数值孔径设计优化：Φ 65mm保证良好的成像质量
工作距离灵活调整：0.5mm适应不同尺寸样品
视场宽阔，清晰展示结果：
目视: Φ0.25mm, 提供近距离操作便利
摄象: 0.13×0.13mm, 显示更详细信息
7．放大倍数选择多样化：
目视:500×, 适用于初步观察与确认目标位置
摄象（计算机屏幕显示）:2500×, 提供更高分辨率查看
8．高效数据采集系统：
接收器阵列数量众多:1000X1000
象素尺寸小巧精准:5.2×5.2µm
9．快速测试时间设定:
测验时间采样（扫描）速度快达每秒1S
10．标准镜材质选用优质:
反射率（高）: ～50 %
反射率（低）: ～4 %
11．照明源配置合理:
照明灯具为白炽灯6V 5W，提供均匀亮度照明环境
12．绿色干涉滤光片特性设置:
波长 λ≒530nm
半宽 λ≒10nm
13．显微镜升程灵活控制:
主显微镜升程110 mm
14.�工作台移动自由空间扩展：
X方向移动范围～10 mm
丫方向移动范围～10 mm
15.�旋转运动与顷斜角调节能力：
工作台旋转运动范围360°
顷斜角调整±6°
16.�计算机系统配置推荐要求：
处理器 P4 或更高性能处理器
内存至少1G RAM
17.�显示设备推荐规格要求：
屏幕大小最少17英寸纯平显示器
